RTR 等離子除膠渣機 FLEX-VC-PS-500R

    簡介及特點:

    本設備主要用於 RTR 除膠渣清潔製程 ，設備可單列 250mm 或單列 520mm 搭配功能 ，采用磁流體軸密封裝置 ，主要用於 RTR UV 鐳射之通孔或盲孔製程中孔內膠渣清潔 ，為後工序電鍍提高良率保證 ，同時可以用於 RTR 顯影製程之後的殘膜清潔 ，精細線路因存在殘膜導致後續蝕刻的開短路 ，采用 RTR plasma 清潔 ，可提高鍍銅及線路良率 。

     

    優勢:

    •      適用 250mm~520mm 寬幅的卷對卷產品

    •      真空腔體內 EPC 糾偏控製 ，保證收料精度 ±0.5mm

    •      專利磁流體密封結構

    •      卷對卷恒張力恒速度控製

    •      獨立等離子反應區隔離 ，減小等離子對其他機構的影響

    •      傳動件及絕緣件均采用高頻陶瓷材質

     


    機台基本規格:

    機台最大尺寸 ( 外觀 )

    3000mm(L)*1850mm(W)*2150mm(H)

    產品厚度

    Min0.036mm~Max0.30mm

    RF 等離子發生器

    額定功率 ：0-10KW(AE)

    空壓入壓壓力

    0.5-0.7Mpa

    製品寬幅

    250mm-520mm

    生產速度

    0.1-3.5m/min

    作業高度

    920mm-1700mm

    製品卷徑

    ψ3”or 6”

    真空測量

    0.1-10 Torr( 美國）

    * 設備設計及規格可進行調整 ，以便提高設備性能 。